一、靶材介紹

　　靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、光伏等領(lǐng)域制備功能薄膜的核心原材料，存在工藝不可替代性。

　　由于是在濺射過(guò)程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標(biāo)材料，又稱“濺射靶材”，純度為99.95%以上，更換不同靶材可得到不同的膜系，實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電或阻擋等功能。

　　不同應(yīng)用的靶材品種性能要求各有側(cè)重，重視高附加值的原料制備。

　　整體而言，靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對(duì)靶材性能都有**影響，且針對(duì)不同的下游影響程度和側(cè)重點(diǎn)有所不同。

▲ 濺射工藝原理圖，資料來(lái)源：江豐電子招股書

　　二、靶材的分類

　　根據(jù)不同材質(zhì)靶材可分為：金屬靶材，陶瓷靶材，合金靶材。

　　根據(jù)不同應(yīng)用領(lǐng)域可分為:

　　● 半導(dǎo)體靶材：

　　電極、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等。

　　儲(chǔ)存器電極薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等。

　　粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等。

　　電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等。

　　● 磁記錄靶材：

　　垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等。

　　硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

　　薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等。

　　人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等。

　　● 光記錄靶材：

　　相變光盤記錄薄膜：硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等。

　　磁光盤記錄薄膜：鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等。

　　光盤反射薄膜：鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等。

　　光盤保護(hù)薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等。

　　● 顯示靶材：

　　透明導(dǎo)電薄膜：氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材等。

　　電極布線薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等。

　　電致發(fā)光薄膜：硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等。

　　● 其他應(yīng)用靶材：

　　裝飾薄膜：鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等。

　　低電阻薄膜：鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等。

　　超導(dǎo)薄膜：釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等。

　　工具鍍薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等。

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